通常光学镀膜要求成膜室内压力等于或低于10-2pa，对于蒸发源与基板距离较远和光学镀膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
真空镀膜主要利用辉光放电将ya气(ar)离子撞击靶材(target)表面， 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用*磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的亚气离子化， 造成靶与亚气离子间的撞击机率增加，镜片染色厂，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用rf交流溅镀，镜片染色厂家，基本的原理是在真空中利用辉光放电将亚气离子撞击靶材表面。
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在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，青海镜片染色，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入光学镀膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
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